Abstract and keywords
Abstract (English):
The article examines the main factors affecting the durability of integrated circuits, as well as analyzes methods for predicting their service life. Special attention is paid to the mechanisms of wear and aging, such as electromigration, hot carrier and oxidative stress. Modern approaches to assessing the reliability of ICS, including mathematical modeling and accelerated testing, are described. The results of the work are a comprehensive guide to understanding and predicting the life cycle of integrated circuits, with the aim of increasing their reliability and extending their service life.

Keywords:
integrated circuit, reliability assessment, modeling, life cycle
Text
Text (PDF): Read Download

Введение

В современном мире, где технологии развиваются с невероятной скоростью, вопрос долговечности интегральных схем (ИС) приобретает особенную актуальность. Эти миниатюрные устройства лежат в основе большинства электронных устройств, от мобильных телефонов до космических аппаратов, и их надежность напрямую влияет на долговечность и эффективность всей системы. С течением времени, факторы вроде температурных колебаний, воздействия радиации и электромиграции могут привести к деградации материалов и, как следствие, к отказу ИС.

Прогнозирование долговечности интегральных схем является сложной задачей, требующей учета множества переменных и использования передовых методов анализа. Разработчики постоянно ищут новые подходы и технологии, которые помогали бы точнее предсказывать срок службы ИС и предупреждать потенциальные отказы. В данной статье мы рассмотрим основные механизмы старения интегральных схем и подходы к их прогнозированию, что позволит лучше понять, как можно повысить надежность и продлить срок службы этих критически важных компонентов.

Интегральные схемы (ИС) подвержены износу и деградации из-за физических, электрических и термических воздействий. Долговечность ИС зависит от множества параметров, включая качество материалов, процесс производства и условия эксплуатации. Важными факторами являются электромиграция, горячий электрон, временной сдвиг порогового напряжения (BTI) и износ диэлектрика. Прогнозирование надежности включает методы ускоренных испытаний и моделирования. Такие технологии как High-K metal gates и FinFET помогают увеличить продолжительность жизни ИС.

 

Факторы, влияющие на долговечность интегральных схем

Интегральные схемы (ИС) подвержены износу и деградации из-за физических, электрических и термических воздействий. Долговечность ИС зависит от множества параметров, включая качество материалов, процесс производства и условия эксплуатации. Важными факторами являются электромиграция, горячий электрон, временной сдвиг порогового напряжения (BTI) и износ диэлектрика. Прогнозирование надежности включает методы ускоренных испытаний и моделирования. Такие технологии как High-K metal gates и FinFET помогают увеличить продолжительность жизни ИС.

Срок службы ИС может существенно влиять на эксплуатационные расходы и безопасность. Методы прогнозирования долговечности, такие как ускоренные испытания и моделирование усталостных процессов, позволяют предвидеть возможные отказы и способствуют разработке более надежной электроники. С учетом продолжительной эксплуатации и требований к минимизации обслуживания, точный прогноз долговечности является ключевым компонентом проектирования ИС.

Долговечность интегральных схем зависит от множества факторов. Среди ключевых - качество материалов, использованных при производстве, условия эксплуатации, температурные режимы и напряжения, на которые схема подвергается в процессе работы. Также значительное влияние оказывают процессы старения и коррозии, вызванные влажностью и химическим воздействием окружающей среды. Не менее важными являются методы упаковки и интеграции компонентов, а также качество контроля на этапе производства. Все эти факторы требуют тщательного учета при проектировании для обеспечения максимальной долговечности интегральных схем.

 

Методы прогнозирования долговечности интегральных схем

Для оценки срока службы интегральных схем используются различные методы. Одним из них является ускоренное тестирование: при повышении температуры, напряжения и других стресс-факторов имитируется ускоренное старение схемы. Этот метод помогает предсказать отказы, рассчитав коэффициенты ускорения. Аналитические методики, такие как модель Аррениуса, учитывают термические и электрические нагрузки. Ещё один подход - мониторинг параметров схемы в реальном времени позволяет наблюдать за её состоянием и предсказывать потенциальные отказы. Моделирование отказов на основе статистических данных дополняет комплексный анализ долговечности.

 

Использование моделей надежности для прогнозирования долговечности

Интегральные схемы (ИС) — основа современной электроники. Их долговечность зависит от различных факторов, таких как температурные циклы, влажность и напряжения, вызывающие физические и химические изменения. Модель надежности — мощный инструмент для оценки срока службы ИС. Эти модели анализируют данные об ускоренных испытаниях и исторические данные о работе устройства. Применение статистических и физических моделей надежности позволяет предсказать отказы и гарантировать требуемый срок службы компонентов. Точные прогнозы надежности помогают производителям минимизировать затраты на гарантийное обслуживание и увеличили время безотказной работы продукции.

 

Практические рекомендации по повышению долговечности интегральных схем

Для увеличения срока службы интегральных схем (ИС) важно контролировать температуру эксплуатации, так как высокая температура ускоряет деградацию материалов и компонентов. Использование качественных материалов и защита от электростатических разрядов (ЭСР) также способствуют повышению надежности. Разработчикам следует тщательно проектировать линии питания и земли, чтобы минимизировать шумы и помехи. Регулярное тестирование и мониторинг состояния схем помогут выявить потенциальные проблемы раньше, позволяя предотвратить отказы.

References

1. Metody kontrolya nadezhnosti pri razrabotke mikroshem / K.V. Zol'nikov, S.A. Evdokimova, T.V. Skvorcova, A.E. Gridnev // Modelirovanie sistem i processov. – 2020. – T. 13, № 1. – S. 39-45.

2. Opredelenie meropriyatiy po programme obespecheniya kachestva rabot proektirovaniya i seriynogo proizvodstva mikroshem i ocenki ih effektivnosti na primere SBIS 1867VN016 / K.V. Zol'nikov, A.S. Yagodkin, S.A. Evdokimova, T.V. Skvorcova // Modelirovanie sistem i processov. – 2020. – T. 13, № 1. – S. 46-53.

3. Zhuravleva, I.V. Osnovnye faktory ioniziruyuschih izlucheniy kosmicheskogo prostranstva, deystvuyuschie na mikroshemy / I.V. Zhuravleva // Modelirovanie sistem i processov. – 2019. – T. 12, № 3. – S. 11-16.

4. Shemotehnicheskiy bazis i proverka mikroshem na rabotosposobnost' / V.K. Zol'nikov, S.A. Evdokimova, A.V. Fomichev [i dr.] // Modelirovanie sistem i processov. – 2018. – T. 11, № 4. – S. 25-30.

5. Razrabotka proektnoy sredy i ocenka tehnologichnosti proizvodstva mikroshemy s uchetom stoykosti k special'nym faktoram na primere SBIS 1867C6F / V.A. Sklyar, V.A. Smerek, K.V. Zol'nikov [i dr.] // Modelirovanie sistem i processov. – 2020. – T. 13, № 1. – S. 77-82.

6. Sozdanie testovogo okruzheniya i poryadok zagruzki testov v processe proektirovaniya mikroshem / K.A. Chubur, A.Yu. Kulay, A.L. Savchenko [i dr.] // Modelirovanie sistem i processov. – 2020. – T. 13, № 1. – S. 83-87.

Login or Create
* Forgot password?